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Equipements du CC MiNaLor

Acquisition de nouveaux équipements

Grâce au soutien de la Région Lorraine, du CNRS et du FEDER, le CC MiNaLor renouvèle ses équipements de lithographie :

  • Lithographie optique : un aligneur de masque MJB4 va être installé prochainement et complétera l'aligneur MA750 (Livré en décembre 2012).
  • Lithographie électronique : un système de lithographie RAITH 150-II offrira des possibilités inédites en termes de résolution (inférieure à 10 nm), de lithographie multi-niveau ou de lithographie sur des grandes surfaces (Livré en Novembre 2012).

Lithographies

  • Enduction et recuits des résines : 2 "spin-coaters", 2 plaques chauffantes, une étuve
  • Masqueur optique : Karl Süss MA-750
    MJB4 (livraison Décembre 2012)
  • Lithographie électronique : Raith 150-II (livraison Novembre 2012)
    MEB FEG JEOL 6500 + Raith Elphy+
  • Nanoimpression : Nanonex 2500

Dépôts de films minces

  • Pulvérisation cathodique : Alliance Concept AC450, 4 cibles 4 pouces, pulvérisation RF et DC
  • Evaporation par effet Joule : MECA 2000, 3 creusets
  • Evaporation par canon à électron (livraison prévue en Juin 2013)

Gravure

  • IBE : Système 4wave (source ICP, détection de fin de gravure SIMS)
  • RIE : plasmalab
  • Plasma O2

Caractérisation et autres

  • Micro-soudure : Hybond
  • Microscopie optique
  • Profilomètre mécanique : Tencor P6