linkedintwitter
Annuaire  |  Flux RSS  |  Espace presse  |  Wiki IJL  |  Webmail  |  Videos  |    Photos   Production scientifique  Publications 

Production scientifique

Publication single view

Article

Titre: Oxygen partial pressure and substrate bias voltage influenced structural, electrical and optical properties of rf magnetron sputtered Ag2Cu2O3 films
Auteur(s): S. Uthanna, M.H.P. REDDY et J.F. Pierson
Journal: International Journal of Nanoscience
Année: 2011
Volume: 10
Pages: 653-657
Projet: Département CP2S : EFCM

Retour vers la liste