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Production scientifique

Publication single view

Article

Titre: Spatial distribution of average charge state and deposition rate in high power impulse magnetron sputtering of copper
Auteur(s): D. Horwat et A. Anders
Journal: Journal of Physics D: Applied Physics
Année: 2008
Volume: 41
Pages: 135210
Projet: Département CP2S : EFCM

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