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Production scientifique

Publication single view

Article

Titre: Role of silicon on the growth mechanisms of CNx and SiCN thin films by N2/CH4 microwave plasma assisted chemical vapour deposition
Auteur(s): P. Kouakou, M. Belmahi V. Brien, V. Hody, H.N. Migeon et J. Bougdira
Journal: Surface coating and technology
Année: 2008
Volume: 203
Pages: 277-283
Projet: Département CP2S : EFCM

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