Titre: | Characterization of a N-2/CH4 Microwave Plasma With a Solid Additive Si Source Used for SiCN Deposition |
---|---|
Auteurs: | Bulou, S., Le Brizoual, L., Hugon, R., De Poucques, L, Belmahi, M., Migeon, H. N. and Bougdira, J. |
Journal: | Plasma Processes and Polymers |
Annee: | 2009 |
Volume: | 6 |
Pages: | S576-S581 |
Equipe: | Département CP2S : Expériences et Simulations des Plasmas Réactifs - Interaction plasma-surface et Traitement des Surfaces ESPRITS |