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Article

Titre: Microwave plasma process for SiCN:H thin films synthesis with composition varying from SiC:H to SiN:H in H2/N2/Ar/hexamethyldisilazane gas mixture.
Auteurs: Belmahi, M., Bulou, S., Thouvenin, A., de Poucques, L., Hugon, R., Le Brizoual, L., Miska, P., Genève, D., Vasseur, J.-L. and Bougdira, J.
Journal: Plasma Processes and Polymers
Annee: 2014
Volume: 11
Pages: 551-558
Equipe: Département CP2S : Expériences et Simulations des Plasmas Réactifs - Interaction plasma-surface et Traitement des Surfaces ESPRITS

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