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Publications: Articles

Article

Titre: a-SiCxNy thin films deposited by a microwave plasma assisted CVD process using a CH4/N2/Ar/HMDSN mixture: methane rate effect
Auteurs: Bulou, S., Le Brizoual, L., Miska, P., De Poucques, L, Hugon, R. and Belmahi, M.
Journal: IOP Conference Series: Materials Science and Engineering
Annee: 2010
Volume: 12
Pages: 012002
Equipe: Département CP2S : Expériences et Simulations des Plasmas Réactifs - Interaction plasma-surface et Traitement des Surfaces ESPRITS

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